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고유전율 High-k 간단히 알아보기 안녕하세요, 송송입니다. 이번 시간에는 고유전율 high-k에 대해 간단히 알아보고자 합니다. 갑자기 뜬금없이 왜 이 주제를 소개하냐! 물론 high-k도 반도체 분야에 아주 좋은 먹거리입니다. 쉽게 예를 들면 제가 지금껏 소개하고 있는 모든 반도체 공정들은 여러분의 핸드폰 하나를 만들기 위한 일련 과정이라고 생각해보자구요. 어떻게 하면 더 싸면서 좋으면서 빠르게 만들 수 있는지를 연구하는게 현 반도체 분야의 주소입니다. 더 싸면서 좋은 품질을 얻기 위해 더 많은 소재를 연구하고 더 우수한 특성을 갖는 물질들을 탐색하는 것이죠. 그럼 각설하고, High-k가 뭔데! ▶ High-k : 고유전율 물질 - 공정이 점차 미세화가 됨에따라 SiO2를 대신할 물질이 필요해지기 시작했습니다. * SiO2 잘 쓰면 .. 2023. 7. 19.
반도체 8대 공정 간단히 알아보기 part.5 @ ALD 안녕하세요, 송송입니다. 저번 시간에는 증착 공정에서 CVD, PVD에 대해 알아봤습니다. 이번 시간에는 Atomic Layer Deposion 공정에 대해 알아보겠습니다. 식각 공정에서 다뤘던 ALE 공정의 역방향으로 생각하시면 충분히 이해하기 쉬울거라고 생각합니다. ALE도 잘 모르겠다면 이전 글을 참고하세요! 2023.07.14 - [분류 전체보기] - 차세대 식각 기술 @ ALE 간단히 알아보기 1. ALD(Atomic Layer Deposition) : 원차층 증착법 - 한층 한층씩 증착시킨다는 말입니다. 자, 그럼 어떻게 한층 한층 쌓느냐. 같이 알아보겠습니다. - ALD는 쉽게 4 Step으로 나눌 수 있습니다. 1) 흡착 단계 : 전구체를 챔버에 주입하면 기판과 화학 반응한다. * 전구체 .. 2023. 7. 18.
반도체 8대 공정 간단히 알아보기 part.5 @ PVD 안녕하세요, 송송입니다. 저번에 CVD 와 PVD 모두 알아보려 했으나.. CVD 분량이 생각보다 많아서 따로 분류를 하려합니다. 식각 공정에서 충분히 chemical 반응과 physical 반응의 차이를 이해하셨을테니, 증착 공정에서의 화학적 및 물리적 방법도 금방 이해하실겁니다. 그럼 시작하겠습니다. 1. PVD(Physical Vapor Deposition) - 물리적인 힘에 의해 Targer 물질을 기판에 증착시키는 방법. PVD 방식은 크게 Thermal Evaporation, E-beam Evaporation, Sputtering 방식으로 나뉘게 됩니다. * 크게 어려울것은 없습니다. Thermal Evaporation = 열 증발 방식 → Target 물체에 열을 가해 이를 증발시켜 기판에 .. 2023. 7. 17.
반도체 8대 공정 간단히 알아보기 part5 @ CVD, PVD 안녕하세요, 송송입니다. 저번 시간엔 증착 공정에 대해 간단히 알아보았는데요, 증착하는 방법에 따라 CVD, PVD로 나뉜다고 말씀드렸었죠? 이번 시간에는 CVD와 PVD에 대해 알아보겠습니다. 그럼 바로 시작하시죠. 1. CVD(Chemical Vapor Deposition) : 화학적 기상 증착법 - 반응기 안에서 화학 증착 반응 기체들을 주입하여 화학 반응에 의해 생성된 고체 화합물을 증착시키는 방법 *말이 어렵죠. 간단히 가볼게요. 반응기=챔버 챔버 안에 우리가 증착하고자 하는 물질을 생성할 수 있는 반응성 가스를 주입하여 얘네들이 화학 반을 후 막을 형성시키는 방법입니다. - CVD에서 내가 원하는 막을 증착시키기 위해서는 어떤 반응성 가스를 사용해야할지 잘 알아놔야겠죠? ▶ CVD 기본적 순서.. 2023. 7. 16.
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