반응형 반도체 8대 공정8 반도체 공정 간단히 알아보기 part.2 @ 산화 공정(2/2) 네, 송송입니다. 저번 포스팅에서 실리콘 산화에 대해 간단히 알아봤습니다. 이번엔 예고 대로 열산화(Thermal oxidation)법에 대해 알아보겠습니다~ 1. Thermal oxidation - 노(로) Furnance를 이용하여 고온(900 ~ 1200 ℃)에서 산화시키는 공정 Furnance에 Gas를 주입하여 산화시키는 방법으로, 주입 가스는 HCl, N2, O2, H2가 사용된다. 음... 위 그림을 보고 의문점이 든다면 당신은 찐 공대생이자 좋은 엔지니어로 성장할 수 있다. 가운데 Furnance 안에 웨이퍼를 로딩해 놓은 상태로 가스를 주입했을 시, 가장 왼쪽에 있는 웨이퍼가 가장 먼저 가스와 반응을 할 것이다. 가스와 반응한다?? 반응?? 반응이 무엇이냐.. 상호작용 즉, 줄건 주고 잃.. 2023. 7. 2. 반도체 8대 공정 간단히 알아보기 part.2 @ 산화 공정(1/2) 안녕하세요, 송송입니다. 실리콘 웨이퍼 제작 다들 완료 하셨죠? 이번 시간엔 우리가 이쁘게 만들어 낸 실리콘 웨이퍼를 실제 공정에 들어갈 수 있게끔 해줄겁니다. 어떻게 할거냐? 산화시킬겁니다. 그럼 시작하겠습니다! 1. 산화란? - 물질이 산소와 결합하여 나타나는 현상 ex) 못이나 철로 된 물건들을 밖에 두면 녹이 슬어있음 → 으엑.. 완전 별로인데? 이걸 웨이퍼에 한다고?? YES! 그럼 WHY? 2. 실리콘 산화막(SiO2, Slicon oxide) - 절연 특성 Good! - 열로 성장된 산화막은 실리콘과 강한 결합력을 갖고 있음 - 고순도 화학작용을 거쳐 성장된 자연 산화막은 매우 청결함 → 반도체 가장 좋은거 : 청결 깨끗 No! 불순물! - 형성된 산화막은 실리콘 웨이퍼의 손상을 보호하고 외.. 2023. 7. 1. 반도체 8대 공정 간단히 알아보기 part.1 @ Wafer 공정(2/2) 안녕하세요, 송송입니다. 저번 시간에 Si wafer에 대해 간단히 정리해보았습니다. 이번 시간엔 우리가 마주할 얇은 Si wafer 판을 만들기 위한 방법에 대해 알아보겠습니다. 먼저, Si wafer를 만들기 위해서는 Si 잉곳을 만들고 제작된 잉곳을 커팅하여 판매하고 있습니다. 다른 방법들로도 웨이퍼를 제작할 수 있습니다.. 그러나, 기업 입장에서 가장 중요한것은 무엇일까요?? 바로 시간과 돈!! 시간 절약과 돈 절약을 하면서도 수율이 높고 단가를 후려칠수 있는 아주 좋은것은 대량 생산입니다. 이와 같이 Si wafer를 대량 생산할 수 있는 방법을 소개해드리겠습니다~ 1. 쵸크랄스키 공법(Czochralski method) - 실리콘 seed를 녹아있는 실리콘 용액 표면에 접촉시킨 후, 실리콘 S.. 2023. 6. 30. 반도체 8대 공정 간단히 알아보기 part.1 @ Wafer 공정(1/2) 안녕하세요, 송송입니다. 수 많은 전문적이고 세밀한 반도체 공정들이 있지만.. 우리가 그 방대한 지식을 알기에는 턱없이 작은 뇌를 갖고 있지요. 그렇기 때문에 저희는 반도체 공정을 대표하는 8가지에 대해 알아보겠습니다. 반도체 8대 공정을 들어오기 전에, 반도체 분야를 시작하기 위한 조건 1. 진공에 대해 간단히 알아보자. 2023. 6. 28. 이전 1 2 다음 반응형
