[반도체] 세정 cleaning 공정의 기초적 개념을 알아보자
안녕하세요, 송송입니다. 이번 글은 반도체에서 꼭 필요한 cleaning 세정 공정에 대해 함께 알아보겠습니다.반도체 Cleaning 공정이란? | 종류, 원리, 화학 조성, 효과 분석반도체 공정에서 Cleaning(세정) 공정은 불순물을 제거하고 공정의 수율을 높이는 핵심적인 단계입니다. Cleaning의 종류, 순서, 사용되는 화학 조성, 원리, 필요성을 자세히 알아보겠습니다.1. 반도체 Cleaning 공정이란?반도체 제조 공정에서는 실리콘 웨이퍼 표면에 유기물, 금속 오염물, 파티클(미세 입자), 자연산화막 등이 발생합니다. 이 오염물은 이후 공정에서 결함을 유발할 수 있기 때문에 반드시 세정(cleaning) 과정이 필요합니다. 오염입자와 관련된 정보는 아래 이전 포스팅을 참고하면 더 도움이 됩..
2025. 3. 6.
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