반응형 ICP1 반도체 8대 공정 part.4 @ 플라즈마 식각 장비 (2) 안녕하세요, 송송입니다. 원래는 저번 시간에 모두 소개하려했던 것인데.. 글을 적다보니 이것도 중요하고~ 저것도 알아야할 듯 싶고~ 해서 적다보니 결국은 Sputtering 방식 밖에 설명하지 못했네요;; 이번 시간엔 플라즈마 식각에 영향을 주는 요인을 간단하게 얘기하고 식각 장비를 얘기해볼게요. ▶ 플라즈마 식각에 영향을 주는 요인 1) 챔버 벽(Chamer wall) 플라즈마 식각에서 챔버 벽과 같이 플라즈마에 직접적으로 노출되는 부분은 식각 특성에 영향을 줄 수 있습니다. 이는 챔버 벽 뿐만 아니라, 장비 내 소모성 부품들도 포함됩니다. 특히나 고밀도 플라즈마 환경에서는 챔벼 벽 및 샤워헤드 포커스링과 같은 부품들이 플라즈마에 의해 부식되고 오염 입 자를 발생시켜 수율 감소의 주 원인이 되기도 합니.. 2023. 7. 7. 이전 1 다음 반응형
